适用范围：
蓝宝石基片、光学光电子材料、触屏玻璃、盖板玻璃、硅片、陶瓷片等非金属的双面研磨抛光。不锈钢、铝合金、钼片等金属材质双面研磨抛光。
特点：
1.本机主体采用一次性成型工艺，合理的结构大大提升整机刚性度。
2.上盘系统设计为三点平衡系统，保证了上盘落下时与下盘的平行度。
3.齿圈、太阳轮、液盆采用同步齿轮抬升，任意位置自锁可停。
4.抛光机供液系统采用双通道冷却，有效降低抛光过程中盘面的温度。
5.工作过程中水液自动分流，使水路和液路分离。
6.三电机联合拖动传动系统，变频调速，实现软启动软停止。
